公开/公告号CN113985122A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州亿马半导体科技有限公司;
申请/专利号CN202111283754.9
申请日2021-11-01
分类号G01R21/133(20060101);G01R22/10(20060101);
代理机构
代理人
地址 215131 江苏省苏州市相城区经济技术开发区漕湖街道春耀路18号3E产业园4号楼201室
入库时间 2023-06-19 14:01:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-23
著录事项变更 IPC(主分类):G01R21/133 专利申请号:2021112837549 变更事项:申请人 变更前:苏州亿马半导体科技有限公司 变更后:苏州亿马汽车科技有限公司 变更事项:地址 变更前:215131 江苏省苏州市相城区经济技术开发区漕湖街道春耀路18号3E产业园4号楼201室 变更后:215131 江苏省苏州市相城区经济技术开发区漕湖街道春耀路18号3E产业园4号楼201室
著录事项变更
机译: 一种制造基于SiC的UV照射检测器装置和基于SiC的UV照射探测器装置
机译: sic的enkristall,生产sic的sic,sic的方法-带外延层的记录,制造具有外延层的sic盘的方法以及基于sic的电子设备
机译: sic的enkristall,生产sic的sic,sic的方法-带外延层的记录,制造具有外延层的sic盘的方法以及基于sic的电子设备