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基于聚乙烯亚胺修饰多孔蒙脱土的混合基质复合膜的制备方法及应用

摘要

本发明公开了一种基于聚乙烯亚胺修饰多孔蒙脱土的混合基质复合膜的制备方法及应用,采用氢氧化钠与蒙脱土的固相反应脱硅产生具有微孔结构的二维多孔蒙脱土;然后利用聚乙烯亚胺与二维多孔蒙脱土孔周围的(Si)O–静电相互作用,使得聚乙烯亚胺进入多孔蒙脱土的孔道中,构筑具有互连二维多孔结构的聚乙烯亚胺修饰的多孔蒙脱土;最后将聚乙烯亚胺修饰的多孔蒙脱土添加到聚乙烯胺溶液中,配制成均一铸膜液,在微孔支撑滤膜表面涂覆成膜。本发明的混合基质复合膜应用于混合气中CO2的分离,为CO2的传递提供更多的扩散通道;孔道中大量氨基载体与CO2发生可逆反应,促进CO2传递,提高混合基质复合膜的CO2渗透速率和CO2/N2选择性。

著录项

  • 公开/公告号CN113750820A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 太原理工大学;

    申请/专利号CN202111146078.0

  • 发明设计人 王永洪;张新儒;李晋平;

    申请日2021-09-28

  • 分类号B01D69/14(20060101);B01D69/10(20060101);B01D67/00(20060101);B01D53/22(20060101);

  • 代理机构14101 太原市科瑞达专利代理有限公司;

  • 代理人申艳玲

  • 地址 030024 山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号

  • 入库时间 2023-06-19 13:38:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-30

    授权

    发明专利权授予

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