公开/公告号CN113491779A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-12
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市原素盾科技有限公司;
申请/专利号CN202010261537.9
发明设计人 吴昊;
申请日2020-04-04
分类号A61L2/10(20060101);A61L2/26(20060101);
代理机构11823 北京鼎德宝专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人安军永
地址 518000 广东省深圳市南山区南山街道南山社区南新路阳光科创中心二期B座802
入库时间 2023-06-19 12:53:05
机译: 深紫外线产生靶,深紫外线光源和深紫外线发射装置
机译: 用于深紫外线的光致抗蚀剂组成树脂及其制造方法和用于深紫外线的光致抗蚀剂组成树脂
机译: 用于半导体器件制造的用于深紫外线曝光的光伏组合物的结构树脂,其制造方法和用于深紫外线曝光的光致抗蚀剂组合物