一种晶片清洗设备和一种晶片清洗设备的控制方法

摘要

本发明实施例提供了一种晶片清洗设备和一种晶片清洗设备的控制方法，所述设备包括：排风模块，第一检测模块和风机过滤模块；所述风机过滤模块用于在通电后，对所述晶片清洗设备的内部吹风；所述排风模块用于在通电后，向所述晶片清洗设备外部排风；所述第一检测模块，用于检测所述排风模块的排风压力信息，并在所述排风压力信息满足预设排风条件时，控制所述风机过滤模块通电；以及在所述排风压力信息不满足所述预设排风条件时，控制所述风机过滤模块断电。根据本发明实施例，在检测到排风模块的排风压力信息满足预设排风条件时，才控制风机过滤模块通电，保证不会将设备内部的化学反应污染物向设备外部扩散。