一种去除光刻胶残留物的清洗液

摘要

本发明提供一种去除光刻胶残留物的清洗液，包含：季胺氢氧化物、醇胺、水、消泡剂、以及有机溶剂。本申请的清洗液加入消泡剂后既可以高效去除晶圆上的光刻胶残留物，也可以对铜、铝等金属基本无腐蚀，而且基本不会起泡，又能延长清洗液的使用寿命。在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。