法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-04-11
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H02M 7/483 专利申请号:2020110735230 申请公布日:20210511
发明专利申请公布后的驳回
机译: 具有循环流体的冷却系统中的腐蚀抑制剂以及在制冷系统中抑制金属结构腐蚀的方法。
机译: 非电解质二次电池的控制器和控制方法,具有该控制器的非电解质二次电池系统以及制造非电解质二次电池的方法
机译: 利用带有二极管泵浦倍频固态激光器的激光曝光系统在立体光刻中形成三维物体的设备和方法