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公开/公告号CN112650179A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-13
原文格式PDF
申请/专利权人 同济大学;
申请/专利号CN202011537045.4
发明设计人 李莉;林国义;杨浩林;
申请日2020-12-23
分类号G05B19/418(20060101);
代理机构31227 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司;
代理人孟旭彤
地址 200000 上海市杨浦区四平路1239号
入库时间 2023-06-19 10:35:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-27
授权
发明专利权授予
机译: 具有排气管的半导体制造系统,与该半导体制造系统一起使用的沉积物消除方法以及制造半导体装置的方法
机译: 半导体发光元件,用于半导体发光元件的晶片,制造半导体发光元件的方法,检查设备,半导体发光元件的制造系统以及用于晶片的制造系统
机译: 半导体器件制造系统以及使用该半导体器件制造系统形成半导体器件图案的方法以及用于制造半导体器件的光刻胶
机译:半导体制造系统中基于改进的自适应网络模糊推理系统(ANFIS)的瓶颈预测方法%半导体制造系统中基于改进的基于自适应网络模糊推理系统(ANFIS)的瓶颈预测方法
机译:基于多代理的制造系统中机器和自动引导车辆的动态调度方法
机译:基于启发式方法的柔性制造系统动态调度
机译:基于数据挖掘的半导体制造系统动态调度方法
机译:柔性制造系统的动态调度:机器和物料搬运控制策略的研究
机译:上行链路中的分层QoS的双动态调度:强化学习方法
机译:开发灵活制造系统动态调度系统
机译:制造系统的动态调度