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离子注入机晶圆传送系统及晶圆传送方法

摘要

本发明涉及一种离子注入机晶圆传送系统及其晶圆传送方法。一种离子注入机晶圆传送系统,其包括真空靶室、左输片机械手、中输片机械手、右输片机械手、左隔离阀门、右隔离阀门、左片库、右片库及离子注入靶台;左输片机械手、中输片机械手、右输片机械手均固定在真空靶室内;左隔离阀门隔离左片库和真空耙室,右隔离阀门隔离右片库和真空耙室;离子注入靶台位于真空耙室内;左输片机械手的工作位包括左片库和离子注入靶台,中输片机械手的工作位包括左片库、右片库和离子注入靶台,右输片机械手的工作位包括右片库和离子注入靶台。该系统使用了三台机械手来配合传送晶圆。大大提高了晶圆传送的效率。

著录项

  • 公开/公告号CN101964319B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201010245272.X

  • 申请日2010-08-04

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王莹

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园北京100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/677 授权公告日:20130320 终止日期:20130804 申请日:20100804

    专利权的终止

  • 2013-03-20

    授权

    授权

  • 2011-03-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/677 申请日:20100804

    实质审查的生效

  • 2011-02-02

    公开

    公开

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