首页> 中国专利> 一种超高精度GMI超导复合磁强计优化方法

一种超高精度GMI超导复合磁强计优化方法

摘要

本发明公开一种超高精度GMI超导复合磁强计优化方法,包括六个优化研究步骤,实现了GMI多层膜敏感材料体系组成结构、退火后处理的影响和YBCO超导磁通变换器的材料制备、加工、后处理的影响以及两者之间的耦合机制和影响的研究优化;本发明对于超导磁通变换器和GMI多层膜敏感结构进行设计和优化,并提出采用三明治结构或者多层薄膜制备高灵敏GMI部件,且无需精确的参数控制和结构设计,结构简单易生产,同时提出采用自制的大面积高性能高温超导薄膜制作磁通变换器,以达到高增益,制作出磁传感器原理样机测量精度高,可以检测fT量级的磁场的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN112307779A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN202011227072.1

  • 发明设计人 王三胜;

    申请日2020-11-06

  • 分类号G06F119/14(20200101);G06F30/20(20200101);

  • 代理机构11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王颖

  • 地址 100191 北京市海淀区学院路37号

  • 入库时间 2023-06-19 09:46:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-04

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号