法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-01
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H02N 1/04 专利申请号:2020109923296 申请公布日:20210105
发明专利申请公布后的视为撤回
机译: 具有凹版压印或双压印图案的摩擦电薄膜的制备方法以及由此制备的摩擦电薄膜和摩擦电纳米发生器
机译: 微米和纳米尺度的制备方法用于薄膜材料的结构,电,光和光电子各向异性的产生和控制
机译: 微米和纳米尺度的制备方法用于薄膜材料的结构,电,光和光电子各向异性的产生和控制