一种瓦当制作上釉设备

摘要

本发明涉及一种上釉设备，尤其涉及一种瓦当制作上釉设备。提供一种能够自动上釉、上釉均匀高效且便于操作的瓦当制作上釉设备。一种瓦当制作上釉设备，包括：底板，底板顶部设有上釉箱；连通管，上釉箱上设有连通管；储釉箱，底板顶部设有储釉箱，储釉箱与连通管连接；第一导向杆，底板顶部靠近上釉箱的一侧设有第一导向杆；移动机构，第一导向杆与底板之间设有移动机构；夹紧机构，第一导向杆上设有夹紧机构。本发明通过夹紧机构实现对瓦当的固定，接着在移动机构和上釉机构的配合下，可稳定快速的对瓦当的均匀上釉，其中，当齿轮沿齿条向下移动时，放置板带动瓦当转动90度，这样就可以使瓦当被更好的上釉。

说明书

技术领域

本发明涉及一种上釉设备，尤其涉及一种瓦当制作上釉设备。

背景技术

瓦当，是指古代中国建筑中覆盖建筑檐头筒瓦前端的遮挡。特指东汉和西汉时期，用以装饰美化和蔽护建筑物檐头的建筑附件，瓦当上刻有文字和图案。

在生产瓦当的过程中，上釉是其中最重要的环节之一，釉能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还能美化器物、便于拭洗和使器物不被尘土腥秽侵蚀，传统的上釉方式一般是人工手动进行上釉，而人工手动上釉不仅效率较低，同时环境也比较恶劣，及其不方便，加之只有瓦当的外表面需要上釉，因此瓦当上釉对工人的熟练度有一定的要求，人们操作时有一定的难度。

因此，针对上述缺点，亟需研发一种能够自动上釉、上釉均匀高效且便于操作的瓦当制作上釉设备。

发明内容

为了克服人工上釉时操作难度较高和上釉效率低的缺点，本发明的技术问题是：提供一种能够自动上釉、上釉均匀高效且便于操作的瓦当制作上釉设备。

一种瓦当制作上釉设备，包括：底板，底板顶部设有上釉箱；连通管，上釉箱上设有连通管；储釉箱，底板顶部设有储釉箱，储釉箱与连通管连接；第一导向杆，底板顶部靠近上釉箱的一侧设有第一导向杆；移动机构，第一导向杆与底板之间设有移动机构；夹紧机构，第一导向杆上设有夹紧机构；上釉机构，第一导向杆上设有上釉机构。

进一步说明，移动机构包括：固定块，第一导向杆上部设有固定块；电动推杆，固定块一侧设有电动推杆；齿条，固定块另一侧设有齿条；活动块，第一导向杆上滑动式设有活动块，电动推杆伸缩杆与活动块连接；第一转轴，活动块上转动式设有第一转轴；齿轮，第一转轴上设有齿轮，齿轮与齿条啮合；滑块，第一转轴一侧设有滑块；导向板，底板顶部靠近第一导向杆的一侧设有导向板，滑块在导向板内滑动。

进一步说明，夹紧机构包括：第一支架，第一转轴上对称设有第一支架；放置板，第一支架之间设有放置板；第二支架，第一支架上均设有第二支架；第二转轴，第二支架之间设有第二转轴；扭转弹簧，第二转轴上对称设有扭转弹簧；压杆，第二转轴上转动式设有压杆，压杆与扭转弹簧连接；第一压板，压杆上设有第一压板，第一压板与放置板接触；第一挡板，压杆远离第一压板的一端设有第一挡板，第一挡板与放置板相卡接；挡块，第一挡板上对称设有挡块。

进一步说明，上釉机构包括：第二导向杆，底板顶部靠近第一导向杆的一侧设有第二导向杆；第一弹簧，第二导向杆上套设有第一弹簧；安装块，第二导向杆上滑动式设有安装块，安装块与第一弹簧连接；活塞筒，安装块上设有活塞筒；活塞杆，活塞筒上滑动式设有活塞杆；第二弹簧，活塞杆上套有第二弹簧；第一接触杆，活塞杆顶部设有第一接触杆，第二弹簧与第一接触杆和活塞筒连接；单向阀，活塞筒底部设有单向阀；吸釉软管，单向阀底部设有吸釉软管，吸釉软管末端与储釉箱连接；第二接触杆，活动块底部设有第二接触杆，第二接触杆与第一接触杆配合；异形杆，安装块上设有异形杆；第一连接块，异形杆上设有第一连接块；喷釉管，第一连接块上设有喷釉管。

进一步说明，还包括：第二连接块，喷釉管上对称设有第二连接块；异形支架，第二连接块之间设有异形支架，异形支架穿过第一连接块；U形块，压杆上设有U形块，U形块与放置板接触。

进一步说明，还包括：滑套，上釉箱内底部设有滑套；第三弹簧，滑套内设有第三弹簧；顶杆，滑套内滑动式设有顶杆，顶杆与第三弹簧连接；楔形杆，滑套上设有楔形杆。

本发明的有益效果为：1、本发明通过夹紧机构实现对瓦当的固定，接着在移动机构和上釉机构的配合下，可稳定快速的对瓦当的均匀上釉，其中，当齿轮沿齿条向下移动时，放置板带动瓦当转动90度，这样就可以使瓦当被更好的上釉。

2、通过设有第二连接块和异形支架，可以更好的支撑住喷釉管，同时U形块可以对上釉完成的瓦当起保护作用，从而避免瓦当向上移动时，喷釉管将瓦当上的釉蹭掉。

3、通过瓦当与顶杆、楔形杆与压杆的配合，使得瓦当上被遮挡的地方能够上釉，进而使瓦当被均匀上釉。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明移动机构的立体构示意图。

图3为本发明夹紧机构的立体结构示意图。

图4为本发明上釉机构的立体结构示意图。

图5为本发明的第一部分立体结构示意图。

附图中的标记：1：底板，2：上釉箱，20：连通管，3：储釉箱，4：第一导向杆，5：移动机构，50：固定块，51：电动推杆，52：齿条，53：活动块，54：第一转轴，55：齿轮，56：滑块，57：导向板，6：夹紧机构，60：第一支架，61：放置板，62：第二支架，63：第二转轴，64：扭转弹簧，65：压杆，66：第一压板，67：第一挡板，68：挡块，7：上釉机构，70：第二导向杆，71：第一弹簧，72：安装块，73：活塞筒，74：活塞杆，75：第二弹簧，750：第一接触杆，76：单向阀，77：吸釉软管，78：第二接触杆，79：异形杆，710：第一连接块，711：喷釉管，8：第二连接块，9：异形支架，10：U形块，11：滑套，12：第三弹簧，13：顶杆，14：楔形杆。

具体实施方式

现在将参照附图在下文中更全面地描述本发明，在附图中示出了本发明当前优选的实施方式。然而，本发明可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文所阐述的实施方式；而是为了透彻性和完整性而提供这些实施方式，并且这些实施方式将本发明的范围充分地传达给技术人员。

实施例1

一种瓦当制作上釉设备，如图1-5所示，包括有底板1、上釉箱2、连通管20、储釉箱3、第一导向杆4、移动机构5、夹紧机构6和上釉机构7，底板1顶部左前侧固定连接有上釉箱2，上釉箱2右侧设有连通管20，底板1顶部右前侧设有储釉箱3，储釉箱3与连通管20连接，底板1顶部左后侧设有第一导向杆4，第一导向杆4与底板1之间设有移动机构5，第一导向杆4上设有夹紧机构6，第一导向杆4上设有上釉机构7。

当人们需要使用本设备时，首先人们将釉倒入储釉箱3中，储釉箱3中的釉会通过连通管20流动至上釉箱2中，接着人们就可将瓦当放置于夹紧机构6上，并挤压上釉机构7部件，使上釉机构7部件内储存一定的釉，使瓦当被固定，然后人们就可启动移动机构5，使移动机构5向下运动，进而带动夹紧机构6向下移动，并使夹紧机构6转动，夹紧机构6带动瓦当转动，待夹紧机构6转动至一定程度时，夹紧机构6不再转动，并继续向下移动，同时移动机构5带动上釉机构7向下移动，接着待夹紧机构6带动瓦当移动至上釉箱2内时，移动机构5停止向下移动，进而使夹紧机构6和瓦当停止移动，此时，上釉机构7对瓦当进行上釉，待上釉完成，人们就可使移动机构5向上移动，移动机构5进而带动夹紧机构6和上釉机构7向上移动复位，待夹紧机构6复位，人们就可将瓦当取下，如此不断重复就可快速对瓦当进行上釉，当人们不需要使用本设备时，关闭移动机构5即可。

移动机构5包括有固定块50、电动推杆51、齿条52、活动块53、第一转轴54、齿轮55、滑块56和导向板57，第一导向杆4上部设有固定块50，固定块50后侧安装有电动推杆51，固定块50前侧固定连接有齿条52，第一导向杆4上以滑动的方式设有活动块53，电动推杆51伸缩杆与活动块53连接，活动块53前侧转动式设有第一转轴54，第一转轴54上设有齿轮55，齿轮55与齿条52啮合，第一转轴54左侧设有滑块56，底板1顶部左后侧设有导向板57，滑块56在导向板57内滑动。

当人们需要使用本设备对瓦当进行上釉时，首先人们将瓦当固定于夹紧机构6上，接着就可启动电动推杆51向下移动，电动推杆51伸缩杆带动活动块53向下移动，活动块53带动第一转轴54、齿轮55和夹紧机构6向下移动，由于齿轮55与齿条52啮合，因此齿轮55向下移动会通过第一转轴54带动夹紧机构6和滑块56向下转动90度，滑块56转动90度进而由水平状态变为竖直状态，同时，滑块56移动至导向板57上较窄的滑槽内，齿轮55与齿条52分离，如此就可以将夹紧机构6和瓦当固定在转动后的状态，进而便于对瓦当的上釉，接着待滑块56向下移动至最大限度时，夹紧机构6和瓦当停止移动，此时上釉机构7对瓦当进行上釉，接着待上釉完成，人们就可启动电动推杆51向上移动，电动推杆51进而通过活动块53和夹紧机构6带动瓦当向上移动，待滑块56移动至与导向板57上较窄的滑槽分离时，齿轮55与齿条52啮合，进而带动滑块56和夹紧机构6向上转动复位，这样待夹紧机构6复位完成，人们就可将瓦当取下，当人们不需要使用本设备时关闭电动推杆51即可。

夹紧机构6包括有第一支架60、放置板61、第二支架62、第二转轴63、扭转弹簧64、压杆65、第一压板66、第一挡板67和挡块68，第一转轴54上左右对称固定连接有第一支架60，第一支架60前侧之间设有放置板61，第一支架60上均设有第二支架62，第二支架62上部之间设有第二转轴63，第二转轴63上对称设有扭转弹簧64，第二转轴63上转动式设有压杆65，压杆65与扭转弹簧64连接，压杆65后端设有第一压板66，第一压板66与放置板61接触，压杆65远前端设有第一挡板67，第一挡板67与放置板61相卡接，第一挡板67前侧对称设有挡块68。

首先人们向上拉动压杆65，压杆65带动第一挡板67、第一压板66和挡块68向上移动，扭转弹簧64发生形变，接着人就可将瓦当放置于放置板61上，放置好后人们就可松开压杆65，使扭转弹簧64复位，扭转弹簧64进而通过压杆65带动第一挡板67、第一压板66和挡块68向下移动复位，第一挡板67复位后与放置板61卡紧，进而固定住瓦当，接着当活动块53向下移动时，活动块53带动其上所有的部件向下移动，接着由于齿轮55与齿条52啮合，因此第一转轴54会带动第一支架60和其上所有的部件向下转动90度，从而带动瓦当转动90度，同时由于挡块68可以挡住瓦当，因此瓦当向下转动时不会滑落，接着待齿轮55与齿条52分离时，滑块56变为竖直状态，这样就可以将瓦当固定在转动后的状态，接着放置板61带动瓦当继续向下移动，使上釉机构7对瓦当进行上釉，待瓦当上釉完成，人们使电动推杆51带动瓦当向上移动复位，接着待齿轮55向上移动与齿条52啮合时，放置板61带动瓦当向上转动复位，当放置板61复位完成，人们就可再次向上拉动压杆65，将瓦当取出，然后人们就可松开压杆65，使压杆65复位，如此不断重复，就可高效对瓦当上釉。

上釉机构7包括有第二导向杆70、第一弹簧71、安装块72、活塞筒73、活塞杆74、第二弹簧75、第一接触杆750、单向阀76、吸釉软管77、第二接触杆78、异形杆79、第一连接块710和喷釉管711，底板1顶部右后侧设有第二导向杆70，第二导向杆70上套设有第一弹簧71，第二导向杆70上以滑动的方式设有安装块72，安装块72与第一弹簧71连接，安装块72左侧设有活塞筒73，活塞筒73上滑动式设有活塞杆74，活塞杆74上套有第二弹簧75，活塞杆74顶部设有第一接触杆750，第二弹簧75与第一接触杆750和活塞筒73连接，活塞筒73底部设有单向阀76，单向阀76底部设有吸釉软管77，吸釉软管77末端与储釉箱3连接，活动块53右侧底部设有第二接触杆78，第二接触杆78与第一接触杆750配合，安装块72后侧设有异形杆79，异形杆79左侧设有第一连接块710，第一连接块710上设有喷釉管711。

首先人们压动第一接触杆750，使第一接触杆750带动活塞杆74向下移动，第二弹簧75被压缩，然后不再压动第一接触杆750，使第二弹簧75复位，进而带动活塞杆74向上移动复位，活塞杆74向上移动就可通过吸釉软管77将储釉箱3内的釉吸入活塞筒73中，待活塞筒73内吸入了一定的釉后，人们就可将瓦当放置于放置板61上固定，并启动电动推杆51向下移动，当活动块53向下移动时，活动块53带动第二接触杆78向下移动，待第二接触杆78与第一接触杆750接触时，第一接触杆750被挤压向下移动，第一接触杆750带动活塞杆74向下移动，第二弹簧75被压缩，活塞杆74带动活塞筒73向下移动，活塞筒73带动安装块72向下移动，安装块72通过异形杆79带动第一连接块710和喷釉管711向下移动，第一弹簧71被压缩，待滑块56向下移动至最大限度时，瓦当停止移动，此时喷釉管711位于瓦当前侧，由于活塞筒73底部设有单向阀76，因此活塞筒73内釉不会从吸釉软管77流向储釉箱3，只会通过喷釉管711向外喷出，对瓦当进行上釉，待上釉完成，人们使电动推杆51向上移动，待第二接触杆78与第一接触杆750分离时，第一弹簧71和第二弹簧75复位，进而使喷釉管711和活塞筒73复位，当人们不需要使用本设备时，关闭电动推杆51即可。

实施例2

在实施例1的基础之上，如图1、图3和图5所示，还包括有第二连接块8、异形支架9和U形块10，喷釉管711上左右对称固定连接有第二连接块8，第二连接块8之间设有异形支架9，异形支架9穿过第一连接块710，压杆65上设有U形块10，U形块10与放置板61接触。

由于喷釉管711为软管，因此第二连接块8和异形支架9可以更好的支撑住喷釉管711，同时U形块10可以对上釉完成的瓦当起保护作用，从而避免瓦当向上移动时，喷釉管711将瓦当上的釉蹭掉。

还包括有滑套11、第三弹簧12、顶杆13和楔形杆14，上釉箱2内底部设有滑套11，滑套11内设有第三弹簧12，滑套11内以滑动的方式设有顶杆13，顶杆13与第三弹簧12连接，滑套11前侧固定连接有楔形杆14。

当瓦当向下移动至与顶杆13接触时，顶杆13顶住瓦当，第三弹簧12被压缩，进而使挡块68与瓦当分离，从而使瓦当被挡块68遮挡的地方能够上釉，同时压杆65与楔形杆14接触，进而使第一挡板67被顶开一小段距离，使第一挡板67与瓦当分离，使得瓦当被第一挡板67遮挡的地方能够上釉，这样就可以将瓦当需要上釉的地方均匀上釉，接着当瓦当向上移动时，瓦当与顶杆13分离，第三弹簧12复位，进而带动顶杆13复位，同时压杆65也与楔形杆14分离，从而使第一挡板67复位，重新固定住瓦当。

以上所述仅为本发明的实施例子而已，并不用于限制本发明。凡在本发明的原则之内，所作的等同替换，均应包含在本发明的保护范围之内。本发明未作详细阐述的内容属于本专业领域技术人员公知的已有技术。