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一种大幅面阵列飞秒激光微流控芯片直印方法及其设备

摘要

本发明公开了一种大幅面阵列飞秒激光微流控芯片直印设备及其方法。利用调控输出的激光光束状态多参数可调的大幅面阵列飞秒激光实现大幅面激光干涉,结合对大幅面阵列飞秒激光干涉状态、干涉组合及曝光方式的调控,经多次曝光叠加输出微流控芯片待加工图案,实现对微流控芯片的直印加工。本发明能够实现微流控芯片的快速加工,提高了微流控芯片的加工效率,缩短了微流控芯片加工周期,在加工具有复杂三维结构的微流控芯片方面具有显著的优势,具有广泛的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN112156819A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010863837.4

  • 发明设计人 曾和平;杨川;胡梦云;袁帅;

    申请日2020-08-25

  • 分类号B01L3/00(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构31251 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郭桂峰

  • 地址 401123 重庆市渝北区卉竹路2号1号楼1-2层1、2号房

  • 入库时间 2023-06-19 09:23:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    授权

    发明专利权授予

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