公开/公告号CN111799644A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-20
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳蚂里奥技术有限公司;
申请/专利号CN202010526484.9
申请日2020-06-09
分类号H01S3/10(20060101);H02H3/00(20060101);H02H3/44(20060101);
代理机构44414 深圳中一联合知识产权代理有限公司;
代理人刘永康
地址 518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦13楼
入库时间 2023-06-19 08:00:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-09
授权
发明专利权授予
机译: 具有受激准分子激光源和受激拉曼位移的高分辨率光学光刻方法和装置
机译: 包含至少一个具有局部Tamm等离子体激元模式的微腔的光传感器和光源
机译: 紫外光源具有结合,电离和受激准分子的形成