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公开/公告号CN111795649A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-20
原文格式PDF
申请/专利权人 中国工程物理研究院应用电子学研究所;
申请/专利号CN202010503118.1
发明设计人 汪丹;周唐建;尚建力;高清松;王君涛;王亚楠;邬映臣;李密;
申请日2020-06-05
分类号G01B11/06(20060101);
代理机构51214 成都九鼎天元知识产权代理有限公司;
代理人韩雪
地址 621000 四川省绵阳市游仙区919信箱1013分箱
入库时间 2023-06-19 08:00:20
机译: 非接触测量板条厚度和/或截面的方法和装置,用于液态金属,特别是钢
机译: 非接触测量层厚度的方法和装置
机译:一种基于光学光学基于光学的方法和用于感测液体β辐射的装置
机译:通过组装温度降温装置(ATR)方法,晶体生长和高效半型非线性光学(NLO)单晶(2A5NPCL)的晶体生长和表征氯化物(2A5NPCL)
机译:不完全匹配条件下二次谐波生成非线性光学晶体厚度设计的简单方法
机译:测量装置中光学膜厚度的光学方法研究
机译:一种用于芝加哥大学的自适应光学系统的波前重建和控制计算机,以及一种自适应光学系统的校正视场和两种增加其的方法。
机译:增强深度成像光学相干断层扫描:测量孕妇脉络膜厚度的一种新方法。
机译:通过一种确定其厚度晶体晶体熔点的依赖性的方法
机译:一种检测雪冰表面云光学厚度和液滴尺寸的太阳反射方法