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日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材

摘要

本发明提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液,包括粘合剂和近红外线遮蔽剂,粘合剂包括式I所示的化合物。较佳地,式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。烷氧基是甲氧基、乙氧基或丙氧基。近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。还提供了相关粘合剂、日照遮蔽膜和基材。本发明的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜,而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高,设计巧妙,制备简便,成本低,适于大规模推广应用。

著录项

  • 公开/公告号CN108531076A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沙河市湡久新材料有限公司;

    申请/专利号CN201810303576.3

  • 发明设计人 饭田繁树;

    申请日2018-04-04

  • 分类号C09D183/06(20060101);C09D7/62(20180101);

  • 代理机构31229 上海唯源专利代理有限公司;

  • 代理人曾耀先

  • 地址 054100 河北省邢台市沙河市329省道经十四路四侧

  • 入库时间 2023-06-19 06:31:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D183/06 申请日:20180404

    实质审查的生效

  • 2018-09-14

    公开

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