首页> 中国专利> 一种集高压短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路

一种集高压短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路

摘要

本发明公开了一种集高压短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路,该电路由负极性高压短脉冲形成电路、高功率负极性低压主脉冲形成电路、正极性低压脉冲形成电路和磁开关组成,利用负极性高压短脉冲来实现对等离子体负载预电离处理,双极性高功率脉冲用于靶材的溅射,可以即时适应负载阻抗变化的特点。集高压短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路输出高功率脉冲占空比远大于负极性高压预电离脉冲的占空比,提高了磁控溅射镀膜电源效率和靶材溅射镀膜效率、减小电源体积。用于解决电源体积较大、效率较低、靶粒子沉积速率低问题。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H02M9/04 申请日:20180206

    实质审查的生效

  • 2018-06-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号