一种高调理低硅油沉积的无硫酸盐洗发香波

摘要

本发明公开了一种高调理低硅油沉积的无硫酸盐洗发香波，按重量百分比包括以下组份：非硫酸盐阴离子表面活性剂5～50％，非硫酸盐两性表面活性剂0.5～3％，悬浮剂0.1～10％，非挥发性调理剂0.01～5％，阳离子瓜尔衍生物0.02～5％，去头屑颗粒0.1～4％，离子浓度调节剂0.1～1％，余量为去离子水；所述洗发香波的pH值为5.58～6.53。本发明的洗发香波通过原料之间的协同增效并且限定选材以及材料的比例，同时也限定了盐量以及PH的范围，从而使得产品具有一个非常强大的絮凝，提高了有效颗粒物的携带，带来了良好的调理效果以及去屑颗粒如ZPT的沉积效果。本发明的洗发香波和市面上硫酸盐香波对比，对皮肤造成的紧绷感，粗糙感等明显减弱，解决了无硫酸盐体系难增稠的问题。