丝光领袖染色方法及丝光领袖生产方法

摘要

本发明公开一种丝光领袖染色方法。该丝光领袖染色方法包括如下步骤：将丝光领袖从压领机的一端穿入经过所述压领机的料槽和压辊，并从所述压领机另一端穿出，所述压领机将所述料槽中的渗透剂及润滑剂附着到所述丝光领袖的表面并渗透到所述丝光领袖的内部；染色。该丝光领袖染色方法能够避免领袖与机器产生较大摩擦而产生擦痕。

说明书

技术领域

本发明涉及服装生产领域，特别是涉及一种丝光领袖染色方法及丝光领袖生产方法。

背景技术

在染色生产过程中，丝光领袖在染色时容易产生擦痕，因为做了丝光，所以领袖比较硬，在缸内容易和染机提布滚筒产生碰撞并相互摩擦，从而产生白色擦痕。

发明内容

基于此，有必要提供一种避免领袖与机器产生较大摩擦从而产生擦痕的丝光领袖染色方法及丝光领袖生产方法。

一种丝光领袖染色方法，包括如下步骤：

将丝光领袖从压领机的一端穿入后经过所述压领机的料槽和压辊，并从所述压领机另一端穿出，所述压领机将所述料槽中的渗透剂及润滑剂附着到所述丝光领袖的表面并渗透到所述丝光领袖的内部；

染色。

一种丝光领袖生产方法，包括如下步骤：

将棉坯领袖按重量分配；

将分配好的所述棉坯领袖进行煮炼；

将煮炼后的所述棉坯领袖通过压领机轧水；

对轧水后的所述棉坯领袖进行烘干；

对烘干后的所述棉坯领袖进行液碱丝光形成丝光领袖；

将所述丝光领袖进行进缸并加醋酸中和，中和后，所述丝光领袖进行出缸轧水并烘干；

将烘干后的所述丝光领袖从所述压领机的一端穿入后经过所述压领机的料槽和压辊，并从所述压领机另一端穿出，所述压领机将所述料槽中的渗透剂及润滑剂附着到所述丝光领袖的表面并渗透到所述丝光领袖的内部；

将渗透有所述渗透剂及润滑剂的所述丝光领袖送入染缸进行染色；即得。

在其中一个实施例中，还包括如下步骤：将染色后的所述丝光领袖进行出缸后轧水。

在其中一个实施例中，还包括如下步骤：烘干出缸轧水后的所述丝光领袖。

在其中一个实施例中，还包括如下步骤：对烘干后的所述丝光领袖进行拆领并质量检查。

在其中一个实施例中，还包括如下步骤：对质量检查后的所述丝光领袖进行包装。

上述的丝光领袖染色方法，通过将丝光领袖从压领机的一端穿入经过所述压领机的料槽和压辊，压领机使领袖表面内部渗透料液，渗透剂及润滑剂渗透到丝光领袖内部，避免了传统的丝光领袖的摩擦，这样就不容易使丝光领袖与机器产生较大摩擦而产生擦痕，可以降低丝光领袖的摩擦系数，提高丝光领袖光滑度，有利于丝光领袖在下一步的染缸内染色。

具体实施方式

本实施例涉及了一种丝光领袖染色方法。

一种丝光领袖染色方法，包括如下步骤：

将丝光领袖从压领机的一端穿入后经过所述压领机的料槽和压辊，并从所述压领机另一端穿出，所述压领机将所述料槽中的渗透剂及润滑剂附着到所述丝光领袖的表面并渗透到所述丝光领袖的内部；

染色。

进一步地，本实施例还涉及了一种丝光领袖生产方法。

一种丝光领袖生产方法，包括如下步骤：

将棉坯领袖按重量分配；

将分配好的所述棉坯领袖进行煮炼；

将煮炼后的所述棉坯领袖通过压领机轧水；

烘干轧水后的所述棉坯领袖；

对烘干后的所述棉坯领袖进行液碱丝光形成丝光领袖；

将所述丝光领袖进行进缸并加醋酸中和，中和后，所述丝光领袖进行出缸轧水并烘干；

将烘干后的所述丝光领袖从所述压领机的一端穿入后经过所述压领机的料槽和压辊，并从所述压领机另一端穿出，所述压领机将所述料槽中的渗透剂及润滑剂附着到所述丝光领袖的表面并渗透到所述丝光领袖的内部；

将渗透有所述渗透剂及润滑剂的所述丝光领袖送入染缸进行染色；即得。

在一个实施例中，上述的丝光领袖生产方法还包括如下步骤：将染色后的所述丝光领袖进行出缸后轧水。

在一个实施例中，上述的丝光领袖生产方法还包括如下步骤：烘干出缸轧水后的所述丝光领袖。

在一个实施例中，上述的丝光领袖生产方法还包括如下步骤：对烘干后的所述丝光领袖进行拆领并质量检查。

在一个实施例中，上述的丝光领袖生产方法还包括如下步骤：对质量检查后的所述丝光领袖进行包装。

上述的丝光领袖染色方法，通过将丝光领袖从压领机的一端穿入经过所述压领机的料槽和压辊，压领机使领袖表面内部渗透料液，渗透剂及润滑剂渗透到丝光领袖内部，避免了传统的丝光领袖的摩擦，这样就不容易使丝光领袖与机器产生较大摩擦而产生擦痕，可以降低丝光领袖的摩擦系数，提高丝光领袖光滑度，有利于丝光领袖在下一步的染缸内染色。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。