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蚀刻初级预制品的方法及由此得到的蚀刻初级预制品

摘要

本发明涉及一种蚀刻初级预制品的方法及由此得到的蚀刻初级预制品。具体而言,本发明涉及一种用于蚀刻初级预制品的方法,所述方法包括如下步骤:*将外径为ODPP的初级预制品引入外径为ODET且内径为IDET的中空蚀刻管的中央腔,使得初级预制品外表面的一部分沿成角度的方向与蚀刻管内表面的一部分接触,由此在初级预制品外表面的剩余部分和蚀刻管内表面的剩余部分之间形成一个开放区域;*将蚀刻管的中央纵向腔内插有初级预制品的蚀刻管安装到机床上,并将蚀刻管引入安装在机床上的施加器的中央开口内,其中,施加器和蚀刻管沿轴向方向上相对于彼此移动;*使蚀刻管围绕其轴转动,由此导致初级预制品在蚀刻管内的反向转动;和*将电磁辐射耦合进施加器,并在蚀刻管被施加器包围的部分内产生在一个或多个行程期间沿蚀刻管的长度方向往复平移的等离子体,其中,在至少一个行程的至少一部分行程期间,通过将含氟蚀刻气体供应至开放区域来蚀刻初级预制品的外部,从而得到蚀刻的初级预制品。本发明还涉及一种初级预制品和由其得到的光纤。

著录项

  • 公开/公告号CN106927686A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德拉克通信科技公司;

    申请/专利号CN201610905739.6

  • 申请日2016-10-17

  • 分类号C03C15/00(20060101);C03B37/012(20060101);C03C17/02(20060101);C03C17/23(20060101);C03C17/245(20060101);C03B37/025(20060101);

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇;李茂家

  • 地址 荷兰阿姆斯特丹

  • 入库时间 2023-06-19 02:44:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C15/00 申请日:20161017

    实质审查的生效

  • 2017-07-07

    公开

    公开

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