一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置

摘要

本发明的目的是解决X射线聚焦光学性能精确测量问题，从而提出一种真空环境下测试X射线聚焦光学性能的装置。该装置包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端。