首页> 中国专利> 微机电器件的制造方法、微机电器件及微机电器件基底结构

微机电器件的制造方法、微机电器件及微机电器件基底结构

摘要

本发明涉及一种微机电器件的制造方法、微机电器件及微机电器件基底结构,该微机电器件的制造方法包括如下步骤:S1:提供微机电器件基底结构,该微机电器件基底结构包括具有上表面和下表面的衬底,设置在所述衬底的上表面的至少一层停止层及设置在最上层的停止层上的器件层,其中,所述衬底与最靠近所述衬底的一层的停止层为不同材料;S2:首先干法刻蚀衬底,然后湿法腐蚀停止层。由于微机电器件的制造方法在干法刻蚀衬底时,先停留在停止层上,然后,再采用湿法腐蚀工艺腐蚀停止层,从而可在干法刻蚀时,通过停止层增强器件层的强度,避免器件层破损,进而提高成品率,同时又能够满足小尺寸器件制造。

著录项

  • 公开/公告号CN106379858A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201611052329.8

  • 发明设计人 宋焱;韩冬;马清杰;

    申请日2016-11-25

  • 分类号B81C1/00;B81B7/02;

  • 代理机构南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人王锋

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢511室

  • 入库时间 2023-06-19 01:28:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B81C1/00 申请公布日:20170208 申请日:20161125

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81C1/00 申请日:20161125

    实质审查的生效

  • 2017-02-08

    公开

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