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多层垛积金属纳米球阵列及其制备方法

摘要

本发明提供了一种多层垛积金属纳米球阵列的制备方法,包括下列步骤:(1)在洁净的衬底上利用镀膜工艺生长2nm-10nm的第一金属膜;(2)将步骤(1)得到的衬底进行第一次退火;(3)在步骤(2)得到的衬底上利用原子沉积技术生长厚度为1nm-10nm的氧化铝;(4)在步骤(3)得到的衬底上利用镀膜工艺生长2nm-10nm的第二金属膜;(5)将步骤(4)得到的衬底进行第二次退火。本发明能够实现大面积的双层垛积金属纳米球阵列的制备,并且可重复性和一致性好。

著录项

  • 公开/公告号CN104630772A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN201310559731.5

  • 发明设计人 李俊杰;胡赵胜;全保刚;顾长志;

    申请日2013-11-12

  • 分类号C23C28/00;C23C16/40;B82Y40/00;B82Y30/00;G01N21/65;

  • 代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人王勇

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2023-12-18 08:44:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-20

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C28/00 申请公布日:20150520 申请日:20131112

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-06-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C28/00 申请日:20131112

    实质审查的生效

  • 2015-05-20

    公开

    公开

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