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曝光及显影设备以及曝光及显影方法

摘要

本公开提供一种曝光及显影设备以及曝光及显影方法。该曝光及显影设备包括:边缘曝光装置,用于对基板的边缘进行曝光;显影装置,用于对曝光后的基板进行显影,该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处;其中,该基板在被输送至该显影装置的过程中,被该边缘曝光装置进行边缘曝光。由于在显影装置的入口处设置边缘曝光装置,基板在进入显影装置的过程中即可同时完成边缘曝光,因此不必多次搬送基板,可缩短工序,大幅提高加工效率。

著录项

  • 公开/公告号CN104597716A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海和辉光电有限公司;

    申请/专利号CN201310534987.0

  • 发明设计人 黄昱嘉;杨靖哲;

    申请日2013-10-31

  • 分类号G03F7/20;G03F7/26;

  • 代理机构隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人李昕巍

  • 地址 201500 上海市金山工业区大道100号1幢二楼208室

  • 入库时间 2023-12-18 08:40:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-14

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20150506 申请日:20131031

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20131031

    实质审查的生效

  • 2015-05-06

    公开

    公开

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