二阶非线性光学薄膜材料及其制备方法

摘要

本发明提供的是一种基于p－n结的二阶非线性光学薄膜材料及其制备方法，该二阶非线性光学薄膜材料由1层以上薄膜材料构成，分别由n型和p型半导体材料组成p/n…/p或n/p…/n形式的交叠多层薄膜材料，所述半导体材料至少包含一层p型和一层n型的半导体薄膜并构成p－n结。该二阶非线性光学薄膜材料的制备方法包括膜系结构设计和所述二阶非线性光学薄膜材料的制备步骤。本发明所述结构的非线性光学材料适合于设计制备高二次谐波产生的二阶非线性光学材料，倍频效率等实用性能可通过改变膜层厚度和薄膜的层数进行调节，产品将广泛应用于非线性光学领域，如激光倍频以及全光谱太阳光利用等。