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等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺

摘要

本发明提供了一种等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺,所要解决的问题是:辉光离子氮化的工件表面有轻微氧化且氮化时间长,会影响超硬膜的结合力和涂层质量,加工时间延长。本发明的要点是:等离子弧光氮化装置的阴极筒设置在真空室的上面,且与真空室连通,聚焦线圈设置在阴极筒的外面,气体混合室的出口和热丝伸入阴极筒里,等离子弧光电源上的转换开关的阳极和阴极分别接在真空室壁和阴极筒上,转换开关的另一阴极接在涂层装置的阴极弧光靶上。本发明的效果是:氮化涂层连续进行,降低成本。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-10

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/54 申请公布日:20110727 申请日:20100126

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/54 申请日:20100126

    实质审查的生效

  • 2011-07-27

    公开

    公开

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