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用于增强确定衬底上的结构的坐标时的测量精确度的方法

摘要

一种用于以高精确度测量衬底上的至少一个结构的坐标的方法。提供可在X/Y坐标方向上横穿的平台,所述平台放置在干涉式光学测量系统中。所述衬底上的结构经由测量物镜(21)成像于至少一个检测器(34)上,所述测量物镜(21)的光轴(20)在Z坐标方向上对准。利用所谓的双扫描使所述结构成像。因此可消除系统误差。

著录项

  • 公开/公告号CN101074866A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 比斯泰克半导体系统股份有限公司;

    申请/专利号CN200710101797.4

  • 申请日2007-05-15

  • 分类号G01B9/02(20060101);G01B11/30(20060101);

  • 代理机构11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁;张华辉

  • 地址 德国玮堡35781库巴查尔维格4号

  • 入库时间 2023-12-17 19:24:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-02-03

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-11-21

    公开

    公开

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