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具有高K电介质存储电容器的DRAM及其制造方法

摘要

一种动态随机存取存储单元包括形成于半导体主体中的晶体管。电容器连接至晶体管上且包括由硅形成的第一电容器极板。金属层与第一电容器极板相邻且与之电连接。电容器电介质层与金属层相邻。该电容器电介质层包括具有介电常数大于约5的材料。第二电容器极板与电容器电介质相邻。电容器可以是沟槽电容器或叠式电容器。

著录项

  • 公开/公告号CN1828905A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 因芬尼昂技术股份公司;

    申请/专利号CN200610004025.4

  • 发明设计人 S·戈文达拉詹;

    申请日2006-01-06

  • 分类号H01L27/108;H01L21/8242;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人范赤

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2023-12-17 17:42:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L27/108 公开日:20060906 申请日:20060106

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-10-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-09-06

    公开

    公开

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