磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之方法

摘要

一种使用磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之方法，其步骤如下：先载入被镀物，将被镀物处于真空环境，以电热器控制进行预先加热，并利用高电压电源供应器(High Voltage Power Supply，HVPS)控制电压与温度，分阶段进行离子轰击，去除被镀物表面氧化层，使用磁控及非平衡式磁控溅射，在被镀物上进行镀膜进行冷却，镀膜工作完成；如上述步骤，通过控制温度、电压、表面清洁，达成表面粗糙度良好而且原子堆栈致密的超硬膜层。