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一种现场可编程门阵列的抗辐射性能快速模拟方法

摘要

本发明属于电子技术领域,具体涉及一种现场可编程门阵列的抗辐射性能快速模拟方法。该方法提出了一种与具体硬件结构无关、基于权重的错误注入模型,用于准确模拟基于SRAM的FPGA抗辐射性能;同时提出了基于JTAG边界扫描技术和动态局部重配置技术的错误注入模拟平台。结合二者的错误注入系统不但具有良好的通用性,而且能更准确更高效地进行模拟,同时成本更低。

著录项

  • 公开/公告号CN102054056B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-11-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN200910198448.8

  • 申请日2009-11-06

  • 分类号G06F17/50(20060101);G01R31/3185(20060101);

  • 代理机构31268 上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴桂琴

  • 地址 200433 上海市邯郸路220号

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-11-14

    授权

    授权

  • 2011-06-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20091106

    实质审查的生效

  • 2011-05-11

    公开

    公开

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