进行半导体机台初期流动管理的方法与相关系统

摘要

本发明提供一种进行半导体机台初期流动管理的方法及相关系统。其方法包含有：记录各机台的各个处理参数、于各机台进行对应的处理时，将各机台进行处理的情形记录于至少一对应的设备参数、在各机台对各半导体制品完成对应的处理后，评估并记录各个处理后半导体制品的品质及对应的量测参数、以及分析各机台对应的各处理参数、各设备参数、与对应半导体制品品质间的关系。