首页> 中国专利> 制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂

制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂

摘要

一种制造光信息记录介质的母板的方法,包括:抗蚀层形成步骤,使用抗蚀剂在衬底的上表面形成抗蚀层;曝光步骤,有选择性地曝光抗蚀层,以使抗蚀层中的状态发生变化;以及显影步骤,在执行曝光步骤之后,在抗蚀层上执行碱性显影处理。抗蚀剂主要由无机材料组成,并且至少包括锑和氧,此外还含有在碱性环境中比TeO

著录项

  • 公开/公告号CN1591631A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 松下电器产业株式会社;

    申请/专利号CN200410057680.7

  • 发明设计人 伊藤英一;大野锐二;川口优子;

    申请日2004-08-23

  • 分类号G11B7/26;G11B7/24;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王玮

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-12-17 15:55:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B7/26 授权公告日:20071024 终止日期:20120823 申请日:20040823

    专利权的终止

  • 2007-10-24

    授权

    授权

  • 2006-04-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-09

    公开

    公开

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