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阻变式存储器以及阻变式存储器的制造方法

摘要

本发明提供一种阻变式存储器以及阻变式存储器的制造方法,其中,阻变式存储器包括顶电极、底电极和阻变层,所述阻变层夹设在所述顶电极和底电极之间,所述阻变层为金属氧化物层,所述顶电极包括第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述第二部分之内,所述第一部分与所述阻变层相接触并位于所述阻变层的设定位置处,所述第一部分能够与所述阻变层中的氧相结合,所述第一部分与氧的结合能力强于所述第二部分与氧的结合能力。本发明可提高阻变式存储器的使用效果。

著录项

  • 公开/公告号CN111223987A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门半导体工业技术研发有限公司;

    申请/专利号CN202010150850.5

  • 申请日2020-03-06

  • 分类号

  • 代理机构北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张洋

  • 地址 361008 福建省厦门市软件园三期诚毅北大街62号109单元0206号

  • 入库时间 2023-12-17 09:25:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20200306

    实质审查的生效

  • 2020-06-02

    公开

    公开

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