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一种低接触面积的台板式高压超声波干式清洗机

摘要

本发明公开了一种低接触面积的台板式高压超声波干式清洗机,包括高压清洗头装置、低接触面积的台板装置、升降支架装置和内组装机架装置,本发明通过高压清洗头出风口气流压力≥20Kpa的高压气流来回清洗玻璃基板,能够有效的提高颗粒去除率,通过阴刻槽减小台板本体与玻璃基板的接触面积,并与台板装置上的的吸附槽的配合,将接触的比例降低到43%,使得清洗过程中产生的静电量少,提高了玻璃基板的清洗能力和清洗效率,整个清洗机结构简单、设计合理,能够实现低接触面积的台板在高压清洗机上的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN111330929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201811545986.5

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2018-12-18

  • 分类号

  • 代理机构北京挺立专利事务所(普通合伙);

  • 代理人叶树明

  • 地址 101200 北京市平谷区马坊镇金马北街61号院2号楼1至2层101

  • 入库时间 2023-12-17 09:04:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B11/04 申请日:20181218

    实质审查的生效

  • 2020-06-26

    公开

    公开

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