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磁致电阻性材料和磁致电阻膜

摘要

本发明涉及磁致电阻材料及其膜。该材料是非磁性基质和分散在非磁性基质内的铁磁性材料如Co或Ni-Fe-Co的超细粒子组成的非均匀体系。为了减轻磁致电阻效应的退化,使用含有Pt和至少一种选自Cu、Ag、和Au中的金属元素的合金或混合物作为非磁性基质的材料。非磁性基质可任选地含有限量的选自Al、Cr、In、Mn、Mo、Nb、Pd、Ta、Ti、W、V、Zr和Ir的辅助元素。磁致电阻材料膜可在基体上成膜,并可任选地在膜和基体间插入缓冲膜和/或用保护层覆盖该膜。

著录项

  • 公开/公告号CN1096690C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2002-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本电气株式会社;

    申请/专利号CN95109128.X

  • 申请日1995-07-01

  • 分类号H01F1/01;H01F 10/16;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人杨丽琴

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-04-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01F 1/01 授权公告日:20021218 终止日期:20090803 申请日:19950701

    专利权的终止

  • 2002-12-18

    授权

    授权

  • 1996-04-24

    公开

    公开

  • 1996-04-03

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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