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微环境的压力控制系统及其控制方法、半导体处理设备

摘要

本发明公开了一种微环境的压力控制系统及其控制方法、半导体处理设备。包括压差检测单元,分别连接至微环境、外部大气环境以及工艺腔室,用于分别获取微环境内部与外部大气环境之间的第一压力差以及微环境内部与工艺腔室内部之间的第二压力差;控制单元,用于分别将第一压力差与预设的第一目标压力差进行比较,当两者不一致时,调整微环境内部的压力;以及将第二压力差与预设的第二目标压力差进行比较,当两者不一致时,调整微环境内部的压力。可以有效阻止微环境外部颗粒进入微环境,还可以使得工艺腔室不受微环境影响,提高工艺性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110797278A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201810863896.4

  • 发明设计人 宋新丰;

    申请日2018-08-01

  • 分类号

  • 代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人彭瑞欣

  • 地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

  • 入库时间 2023-12-17 06:47:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20180801

    实质审查的生效

  • 2020-02-14

    公开

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