首页> 中国专利> 相位移光罩缺陷补偿方法、装置及相位移光罩

相位移光罩缺陷补偿方法、装置及相位移光罩

摘要

本发明涉及一种相位移光罩缺陷补偿方法、装置及相位移光罩,方法包括:根据提供的相位移光罩,获取相位移光罩的参数;根据相位移光罩的参数建立检测模型;通过检测模型结合照明条件以及晶圆的光刻胶性质,计算出相位移光罩中的相位移垫层图案上的缺陷区域;缺陷区域为相位移光罩曝光时导致晶圆的表面出现破口的区域;根据缺陷区域的边界,确定需要覆盖在缺陷区域上的不透光层的边界;不透光层覆盖缺陷区域。本发明实施例通过检测相位移垫层图案中的缺陷区域,并在缺陷区域上覆盖不透光层,实现在通过相位移光罩对晶圆曝光时,在不透光层的作用下,与缺陷区域对应的晶圆表面位置处不再出现破口。

著录项

  • 公开/公告号CN110888298A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 长鑫存储技术有限公司;

    申请/专利号CN201811044352.1

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2018-09-07

  • 分类号

  • 代理机构北京市铸成律师事务所;

  • 代理人张臻贤

  • 地址 230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

  • 入库时间 2023-12-17 06:43:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/72 申请日:20180907

    实质审查的生效

  • 2020-03-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号