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一种高纯高均匀性金靶材及其制备方法与应用

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摘要

本发明公开了一种高纯高均匀性金靶材及其制备方法与应用，属于金属材料技术领域。本发明高纯高均匀性金靶材，以质量百分数计，Au不低于99.999％，Ag不高于(5*10

1. 一种高纯高均匀性金靶材及其制备方法与应用 [P] . 中国专利： CN110938799A . 2020-03-31
2. 一种高纯多晶硅溅射靶材及其制备方法和应用 [P] . 中国专利： CN108359949A . 2018-08-03
3. PRODUCTION METHOD FOR HIGH-PURITY LANTHANUM, HIGH-PURITY LANTHANUM, SPUTTERING TARGET COMPOSED OF HIGH-PURITY LANTHANUM, AND METAL GATE FILM CONTAINING HIGH-PURITY LANTHANUM AS MAIN COMPONENT [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2641982B1 . 2019-07-24

机译：高纯镧，高纯镧，由高纯镧组成的溅射靶材和以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法
4. PRODUCTION METHOD FOR HIGH-PURITY LANTHANUM, HIGH-PURITY LANTHANUM, SPUTTERING TARGET COMPOSED OF HIGH-PURITY LANTHANUM, AND METAL GATE FILM CONTAINING HIGH-PURITY LANTHANUM AS MAIN COMPONENT [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2641982A4 . 2016-10-19

机译：高纯镧，高纯镧，由高纯镧组成的溅射靶材以及以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法
5. PRODUCTION METHOD FOR HIGH-PURITY LANTHANUM, HIGH-PURITY LANTHANUM, SPUTTERING TARGET COMPOSED OF HIGH-PURITY LANTHANUM, AND METAL GATE FILM CONTAINING HIGH-PURITY LANTHANUM AS MAIN COMPONENT [P] . 韩国专利： KR1015160990000B1 . 2015-05-04

机译：高纯镧，高纯镧，由高纯镧组成的溅射靶材以及以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法