一种等离子刻蚀机用尘埃消除装置

摘要

本发明涉及半导体加工技术领域，且公开了一种等离子刻蚀机用尘埃消除装置，包括机体，所述机体的内壁开设有环形凹槽，所述凹槽依次排列在机体的内壁上，所述凹槽的内壁粘接有吸附板。通过吸附板与反应气体之间的配合，使得气体在轰击基片时，沿机体的内壁螺旋向下移动，使得气体与吸附板之间产生摩擦，随着摩擦力的增长，使得吸附板上附带正电荷，再利用正负电荷相互吸引的原理，使得带负电荷的尘埃颗粒在运行中，直接被吸附板上的正电荷吸引，使得尘埃颗粒全部汇集在吸附板上，部分尘埃颗粒正负电荷相互抵消时落入卡槽中，另一部分尘埃颗粒在放电结束时，掉入卡槽中，使得基片加工完成后表面保持整洁，内部腔体也便于清洁。