光栅刻写方法、光栅刻写装置、光纤及光纤激光器

摘要

本申请提供一种光栅刻写方法、光栅刻写装置、光纤及光纤激光器，涉及光纤制造技术领域。所述方法包括：基于激光器模型中指定模式的光束的光功率与光纤光栅的纤芯中的指定介质掺杂直径的对应关系，确定使模型中指定模式的光束光功率为零的指定介质掺杂直径范围；从该直径范围中选取第一直径，将以纤芯的横截面的圆心为圆点、直径为第一直径的圆作为光敏提升区域，其他纤芯区域作为补偿区域；基于不同掺杂浓度分别对光敏提升区域和补偿区域进行指定介质掺杂，对指定介质掺杂后的光纤进行光栅刻写。通过设定光敏提升区域对纤芯进行非均匀介质掺杂，可以抑制高阶模在激光器中的起振，从而抑制高阶模振荡引起的光束质量退化和效率降低。