一种消除摄像模组点子缺陷的ALD制备方法及其产物

摘要

本发明提供了一种消除摄像模组点子缺陷的ALD制备方法及其产物，通过ALD实现光学元件高、低折射率膜层的交替沉积，反应物料以气体形式在反应腔通过吸附沉积到衬底基板上，不存在蒸发或者溅射过程，消除了点子缺陷的来源，因此不会形成大颗粒的点子缺陷，从而大大提高了摄像模组的成像品质，使得ALD在摄像模组的加工过程得到了具有实际性操作意义的应用。