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光化学反应槽用温控光源装置及该光化学反应槽

摘要

本发明公开了一种光化学反应槽用温控光源装置,供设置于一光化学反应槽中,并供导接至一温控装置,前述光化学反应槽在进行任一光化学反应时,各自存在有一适当反应温度,该温控光源装置包括:一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体;上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体;及复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板,每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件,前述发光件具有一位于上述预定波长范围的主发光波长以及一操作极限温度。此外,本发明还公开了具有温控光源装置的光化学反应槽。

著录项

  • 公开/公告号CN110876915A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 捷微科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201811030788.5

  • 发明设计人 杨之逸;

    申请日2018-09-05

  • 分类号

  • 代理机构上海中优律师事务所;

  • 代理人潘诗孟

  • 地址 中国台湾新北市新店区民权路108之2号10楼

  • 入库时间 2023-12-17 06:30:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01J19/12 申请日:20180905

    实质审查的生效

  • 2020-03-13

    公开

    公开

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