退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN103430291A
专利类型发明专利
公开/公告日2013-12-04
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN201280012115.1
发明设计人 谢波;A·T·迪莫斯;K·S·伊姆;T·诺瓦克;陈劲文;
申请日2012-04-04
分类号H01L21/31;
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人陆嘉
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 22:01:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-10
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/31 申请公布日:20131204 申请日:20120404
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-12-04
公开
机译: 紫外线辅助光化学气相沉积,用于受损低介电常数薄膜的孔密封
机译: 紫外线-紫外线辅助的光化学气相沉积,用于受损的低K膜孔密封
机译: 紫外线辅助的硅烷化,用于损坏的低K膜的回收和孔密封
机译:紫外线和硅烷化处理提高中孔纯硅沸石低介电常数薄膜的杨氏模量
机译:通过紫外线退火提高薄膜质量的技术有望应用于低介电常数薄膜以外的其他部件。
机译:低介电常数薄膜的低介电常数薄膜的纳米孔结构
机译:k恢复过程后紫外线辅助固化等离子体受损多孔超值-K材料:紫外波长和固化环境的影响
机译:用于金属氧化物半导体应用的介电薄膜的紫外线辅助处理。
机译:基于芘羧酸盐的配位聚合物用于微波辅助无溶剂 - 无溶剂 - 醛甲硅烷硅烷化
机译:适用于低介电常数和超低介电常数的新型薄膜聚合物发泡技术
机译:用于CFD开发的长孔薄膜冷却数据集 - 流动和薄膜效率。