法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-03-02
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J9/12 申请公布日:20130619 申请日:20130321
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-07-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J9/12 申请日:20130321
实质审查的生效
2013-06-19
公开
公开
机译: 例如用于生产纳米粒子,颜料,涂料,压花片或结构化表面的释放层包含有机单体,例如有机硅,有机硅,有机硅和有机硅。三聚氰胺,通过真空气相沉积法沉积
机译: 电子设备的结构的真空溅射法,控制溅射材料和掺杂剂的蒸气的生长结构和生长时的掺杂浓度的控制方法,以实现上述的控制方法,以及基于硅的材料的真空注入的方法蒸气源
机译: 利用绝缘子上的硅制造硅释放结构的方法