渐变界面纳米薄层提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射膜激光损伤阈值的方法

摘要

一种基于渐变界面纳米薄层技术提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射膜激光损伤阈值的方法，利用电子束蒸发技术交替沉积纳米厚度Al2O3和HfO2薄层作为高折射率膜层，取代常规多层膜中的纯HfO2或Al2O3膜层。本发明综合利用HfO2材料折射率高和Al2O3材料本征紫外激光损伤阈值高的优势，通过纳米薄层技术，不但增加了高折射率材料层等效折射率的调控能力，而且降低了膜层中的电场强度，在不影响薄膜反射率的前提下，提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射薄膜的激光损伤阈值。