一种具有氢气敏感效应的钯/碳/硅异质结材料

摘要

本发明提供了一种具有氢气敏感效应的钯膜/碳膜/硅异质结材料，该材料是通过磁控溅射的方法，将纯度为99.9％的石墨靶溅射到抛光的硅基片上，形成一层厚度为20～200纳米的碳薄膜。再在纯碳薄膜上溅射一层厚度为10～30纳米的纯钯膜。该钯膜/碳膜/硅异质结新材料具有明显的氢气敏感效应，可以用于制备电导型或电容型氢气气敏传感器，在室温下工作，制备简单，易实现器件的微型化、集成化，且灵敏度高、响应时间短、稳定性好，生产工艺简单，成本低，具有广阔的应用前景。