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4,4’-二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种4,4’‑二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料及其制备方法,该光敏染料的结构式如下:式中R1代表C1~C10烷基;D为硫脲三苯胺电子供体。本发明在联噻吩桥链的4和4’两个位置引入烷基苯,可达到拓宽纯有机光敏染料吸收谱带范围和抑制分子间团聚的双重效果:一方面,烷基苯可进一步提高联噻吩桥链的富电子性能,利于电子从供体向受体的传递,从而拓宽染料的吸收谱带范围;另一方面,烷基苯具有一定的空间位阻,可有效抑制染料分子间的团聚。4,4’‑二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料可用于制备太阳能电池,因其不含贵金属钌,制备成本低,且纯化方法简单,具有广阔的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN109575005A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安近代化学研究所;

    申请/专利号CN201811426254.4

  • 申请日2018-11-27

  • 分类号C07D409/14(20060101);C09B57/00(20060101);H01G9/20(20060101);H01G9/042(20060101);

  • 代理机构11011 中国兵器工业集团公司专利中心;

  • 代理人梁勇

  • 地址 710065 陕西省西安市雁塔区丈八东路168号

  • 入库时间 2024-02-19 08:07:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07D409/14 申请日:20181127

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

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