公开/公告号CN109298593A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;
申请/专利号CN201811477081.9
申请日2018-12-05
分类号
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人戴广志
地址 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
入库时间 2024-02-19 07:03:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-01
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20181205
实质审查的生效
2019-02-01
公开
公开
机译: 通过使用校准的固有分解模型的曝光工具的组合来预测和最小化模型OPC偏差的方法
机译: 使用校准的特征分解模型预测和最小化由于曝光工具的混合/匹配而导致的模型opc偏差的方法
机译: 预测和最小化使用校准的专有分解模型的不同曝光的组合/适应所导致的与OPC模型的偏差的方法