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公开/公告号CN109161857A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-08
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州工业职业技术学院;
申请/专利号CN201811305242.6
发明设计人 耿哲;刘阳;石皋莲;吴少华;黄华栋;
申请日2018-11-02
分类号
代理机构上海汉声知识产权代理有限公司;
代理人胡晶
地址 215104 江苏省苏州市苏州国际教育园致能大道1号
入库时间 2024-02-19 06:40:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-01
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/32 申请日:20181102
实质审查的生效
2019-01-08
公开
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机译: 形成薄膜图案的方法,该薄膜图案可通过减小蚀刻纵横比来改善蚀刻轮廓
机译: 薄膜晶体管阵列基质及其制备方法,可改善金属图案与门保护电极之间的接触电阻
机译:升高温度下图案化钛涂层的摩擦学行为
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