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机译:大面积CVD石墨烯的可控生长和表面掺杂研究
黄志艺;
机译:关于铜表面上CVD石墨烯生长的第一个原理研究:碳原子结合到石墨烯边缘
机译:通过快速加热等离子体CVD在SiO _2衬底上直接生长掺杂密度控制的六方石墨烯
机译:铜催化剂表面工程对硼掺杂石墨烯CVD生长的影响,固体碳和硼源
机译:CVD石墨烯生长条件下GE表面蚀刻凹坑的形成
机译:在SiO 2衬底上通过剥落的石墨烯种子进行CVD生长石墨烯。
机译:通过在MOCVD反应器中掺杂来控制石墨烯功函数
机译:铜催化剂表面工程对硼掺杂石墨烯CVD生长的影响,具有固体碳和硼源
机译:通过在基质表面处理过程中浸渍图谱来转移能够简化操作的图谱的装置和方法
机译:利用基体表面改性和相同结构的石墨烯结构浸渍石墨烯的方法
机译:通过掺入掺杂在石墨烯表面上的可再生金属掺杂剂而具有增加的工作功能的石墨烯,其制造方法以及包括该石墨烯的电子装置
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