Luminescence of Strain Compensated Si/Si_(0.62)Ge_(0.38) Quantum Well Grown on Si_(0.75)Ge_(0.25) Virtual Substrate

摘要

由于SI/SIgE异质结构的带阶差主要发生在价带,为实现高效率的发光,本文从理论上设计了在硅基SI1-XgEX虚衬底上外延应变补偿的SI/S1-ygEy(y>X)量子阱的能带结构,将量子阱对电子的限制势垒提高到100MEV以上。在实验上,采用300℃生长的gE量子点插入层,制备出薄的SIgE驰豫缓冲层(虚衬底),表面gE组份达到0.25,表面粗糙度小于2nM,驰豫度接近100%。在我们制备的SIgE缓冲层上外延了应变补偿SIgE/SI多量子阱结构,并初步研究了其发光特性。